TECNOLOGIA DEI MATERIALI PER USO DENTALE TITANIO PER USO IMPLANTOLOGICO

0
1607
Alberto Nastri
Odontotecnico

Il titanio è un elemento assai diffuso nella crosta terrestre ed è un metallo che tra le sue caratteristiche più interessanti annovera una bassa conducibilità termica, un’alta resistenza meccanica, un’ottima resistenza alla corrosione oltre alla sua certificata biocompatibilità.

I primi studi di queste proprietà furono svolti dall’ingegnere neozelandese Hunter nei primi anni del 1900. Egli riuscì ad ottenere attraverso un procedimento che prese il suo nome (Processo Hunter) un titanio puro al 99%.

Negli anni successivi tale metodo fu migliorato in quanto la sua attuazione risultava troppo onerosa e pericolosa.

L’industria meccanica in particolar modo, ma anche quella aereonautica, navale e chimica impiegano costantemente il titanio.

In medicina e nello specifico nel settore odontoiatrico si è iniziato ad usare il titanio sul finire degli anni ’60 grazie agli studi ed alle intuizioni del Prof. Ingvar Branemark, unanimemente considerato il padre dell’implantologia dentale.

Parlare solo di titanio quando si tratta di impianti dentali non è sufficiente; è bene sapere infatti che il corretto tipo di titanio da utilizzare sia per le parti implantabili (viti endoossee) che per le parti emergenti (pilastri o abutment) è quello di grado 5 nella configurazione chimica TI6AL4V.

Tutti i test hanno dimostrato infatti essere la più resistente ed affidabile in quanto il legame con i due elementi, alluminio e vanadio, consente al titanio di essere più stabile agli agenti corrosivi come l’azoto e l’idrogeno.

A volte si preferisce per alcuni tipi di viti usare la lega sopraindicata (TI6AL4V) nella versione ELI ovvero prodotta in ambiente totalmente privo di ossigeno, cosa che determina una totale mancanza di impurità, ma una, se pur contenuta, minor resistenza meccanica.

Di questi fattori sarà l’implantologo a doverne tener conto per la scelta mirata dell’impianto più idoneo al caso clinico che si trova ad affrontare.